多功能真空鍍膜設備是如何制造的

多功能真空鍍膜設備是如何制造的

在我們談客戶的過程中，有不少朋友想知道多功能真空鍍膜設備是如何組成的。該設備是能夠實現多種功能，還是由多種功能部件組成？

多功能真空鍍膜設備是磁控濺射、多弧離子鍍膜和發汗鍍膜的混合設備。在多弧離子鍍膜設備的基礎上，配以圓柱形靶材或平面磁控管靶材。該設備具有離子鍍的高電離率和高堆積速度的特點。它還具有磁控濺射溫度低、穩定性好的優點，適用于鍍各種復合薄膜。

真空鍍膜設備

多功能真空鍍膜設備——磁控中頻多弧離子鍍膜。具體介紹：

（1） 發汗磁控濺射混合設備：多功能，適合批量生產，適應性強。

（2） 磁控濺射與多弧離子鍍的混合應用：多弧可提高脫殼清洗質量，增加膜與基體的附著力。配合磁控濺射，可鍍復合膜（高能離子源清洗活化，成膜速度快）。

（3） 多個中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合應用：1.中頻靶更穩定（如鋁），電離率高，堆積速度快，成膜均勻。2.中頻反應濺射，如鍍SiO2和TiO2，同時鍍多種不同原料的薄膜。

（4） 射頻、直流、中頻和柱弧混合應用：射頻可直接鍍上絕緣保護膜，如SiO2/Ag/SiO2

（5） 圓柱弧、中頻弧和多弧混合應用：圓柱弧確保高電離率，減少大顆粒的積聚，具有良好的附著力和表面光潔度。

多功能真空鍍膜設備適用于表帶、表殼、眼鏡架、手設備殼、高爾夫工具、潔具、珠寶首飾等中高檔商品。